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应用拓宽了先进的图案

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棋牌代理加利福尼亚州圣克拉拉市,7月20日(UPI) - 总部位于加利福尼亚州圣克拉拉市的应用材料公司扩大了其先进的图案解决方案产品组合。太阳能技术的纳米制造商推出了应用生产商ACE SACVD (1)系统。公司官员表示,新系统将帮助客户使用自对准双图案方案扩展193纳米光刻。应用的ACE系统提供高度保形的氧化物间隔膜,其阶梯覆盖率大于95%,图案负载小于5%时,非均匀性小于1%时,可实现最先进的关键尺寸控制。结合基准吞吐量大于每小时80片晶圆和低热预算,ACE系统为32纳米节点及以上的SADP提供业界最高效,最可扩展的间隔解决方案。“光刻技术正在努力跟上对更高存储器存储密官方网站度的需求; SADP技术使用当前的光刻方案使图形密度加倍,使其成为32纳米及以上的首选解决方案,“Hichem M'Saad,副总裁兼总裁应用材料公司Dielectric Systems和CMP Business Group的经理在一份声明中说。“专有的生产商ACE技术提供了无与伦比的阶梯覆盖率和均匀性的薄膜,与Applied的行业领先的APF碳硬掩模等图案化薄膜兼容,以实现业界最先进的22纳米线/空间阵列。“间隔膜在使用SADP方案制造高级存储单元方面起着关键作用.ACE隔离膜沉积在牺牲性APF线/空间阵列的顶部,成为硬掩模,在下面的第二个APF层中产生半间距特征。棋牌游戏
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